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          頂點(diǎn)光電子商城2024年3月7日消息：近日，武漢光谷實(shí)驗(yàn)室在成像芯片技術(shù)領(lǐng)域取得了重大突破，成功攻克了新型成像芯片技術(shù)。這一技術(shù)的核心在于采用了膠體量子點(diǎn)成像芯片，實(shí)現(xiàn)了短波紅外成像，為眾多應(yīng)用領(lǐng)域提供了更為高效和精確的視覺(jué)感知能力。

           具體而言，這款成像芯片的面陣規(guī)模達(dá)到了30萬(wàn)，盲元率低于6‰，波長(zhǎng)范圍在0.4-1.7微米之間，暗電流密度小于50nA/cm2，外量子效率超過(guò)60%，展現(xiàn)出了優(yōu)越的性能。這些性能參數(shù)的提升，使得該成像芯片在圖像分辨率、響應(yīng)速度、功耗等方面都有了顯著的優(yōu)勢(shì)。

          該技術(shù)的核心優(yōu)勢(shì)在于其圖像分辨率高，像素尺寸僅受限于艾利斑直徑，這意味著它能夠捕捉到更為精細(xì)的圖像細(xì)節(jié)。同時(shí)，它采用了溶液法低溫加工工藝，與任何形貌的基底均兼容，這使得該成像芯片在制備過(guò)程中具有更高的靈活性和適應(yīng)性。此外，其探測(cè)波段高度可定制化，不受襯底吸收影響，可以適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)景的需求。

           值得一提的是，這款成像芯片的制造成本僅為傳統(tǒng)方式的百分之一，這無(wú)疑為大規(guī)模應(yīng)用提供了可能性。而且，武漢光谷實(shí)驗(yàn)室團(tuán)隊(duì)已經(jīng)申請(qǐng)了十五項(xiàng)發(fā)明專利，并已獲授權(quán)七項(xiàng)，這充分展示了該團(tuán)隊(duì)在成像芯片技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新實(shí)力。

          展望未來(lái)，這一成像芯片新技術(shù)有望在食品檢測(cè)、半導(dǎo)體檢測(cè)、自動(dòng)駕駛等眾多工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域中發(fā)揮重要作用。通過(guò)提供更準(zhǔn)確、更快速的視覺(jué)感知信息，它將幫助提升這些領(lǐng)域的生產(chǎn)效率、降低成本，并推動(dòng)相關(guān)技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。

         總之，武漢光谷實(shí)驗(yàn)室在成像芯片技術(shù)領(lǐng)域的這一重大突破，不僅展示了中國(guó)科研團(tuán)隊(duì)在高新技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新能力，也為相關(guān)應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展提供了強(qiáng)大的技術(shù)支撐。我們期待這一技術(shù)能夠在未來(lái)得到更廣泛的應(yīng)用和推廣，為科技進(jìn)步和社會(huì)發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。